1．碲及其化合物具有許多優(yōu)良性能，被廣泛用于冶金、化工、醫(yī)藥衛(wèi)生等工業(yè)領(lǐng)域。工業(yè)上用銅陽極泥（主要成分除含Cu、Te外，還有少量Ag和Au）經(jīng)如下工藝流程得到粗碲


已知：TeOSO₄為正鹽。
（1）已知此工藝中“加壓硫酸浸出”過程中會(huì)發(fā)生以下化學(xué)反應(yīng)：Cu₂Te+2O₂=2CuO+TeO₂；TeO₂+H₂SO₄=TeOSO₄+H₂O。“含碲浸出液”的溶質(zhì)成分除了TeOSO₄外，主要是 （填化學(xué)式）。
（2）操作Ⅰ的分離方法是 。
（3）“電解沉積除銅”時(shí)，將“含碲浸出液”置于電解槽中，銅、碲沉淀的關(guān)系如圖。電解初級(jí)階段陰極的主要電極反應(yīng)是 。


（4）通過圖像分析，你認(rèn)為工業(yè)上該過程持續(xù)的時(shí)段最好是 （填標(biāo)號(hào)）。
A．20h
B．30h
C．35h
D．40h
（5）向“含碲硫酸銅母液”中通入SO₂并加入NaCl反應(yīng)一段時(shí)間后，Te（Ⅳ）濃度從6.72g?L^-1下降到0.10g?L^-1，該過程生成粗碲的離子方程式：。
（6）25℃時(shí)，亞碲酸（H₂TeO₃）的K_a1=1×10^-3，K_a2=2×10^-8。
①0.1mol?L^-1H₂TeO₃的pH約為 。
②0.1mol?L^-1的NaHTeO₃溶液中，下列粒子的物質(zhì)的量濃度關(guān)系正確的是 （填標(biāo)號(hào)）。
A．c（Na⁺）＞c（）＞c（OH^-）＞c（H₂TeO₃）＞c（H⁺）
B．c（Na⁺）+c（H⁺）=c（）+c（）+c（OH^-）
C．c（Na⁺）=c（）+c（）+c（H₂TeO₃）
D．c（H⁺）+c（H₂TeO₃）=c（OH^-）+c（）

2．高品質(zhì)MnO₂可用于生產(chǎn)鋰離子電池正極材料錳酸鋰．以軟錳礦與黃鐵礦為主要原料采用“兩礦一步浸出法”制備高品質(zhì)MnO₂的某工藝流程如圖所示：

已知：①軟錳礦與黃鐵礦的主要成分為MnO₂、FeS₂，還含少量FeO、Fe₂O₃、MgO、Al₂O₃、SiO₂等雜質(zhì)；
②該工藝條件下，相關(guān)金屬離子完全形成氫氧化物沉淀的pH如下：

金屬離子	Fe2+	Fe3+	Mn2+	Mg2+	Al3+
開始沉淀pH	6.9	1.9	6.6	9.1	3.4
沉淀完全（c=1.0×10-5mol?L-1）的pH	8.3	3.2	10.1	10.9	4.7

回答下列問題：
（1）“配礦”過程中，將軟錳礦與黃鐵礦粉碎混勻的目的是 ．
（2）“酸浸”操作中需先后分批加入H₂SO₄、H₂O₂．加入H₂SO₄后發(fā)生酸浸過程的主要反應(yīng)離子方程式為2FeS₂+3MnO₂+12H⁺═2Fe³⁺+3Mn²⁺+4S↓+6H₂O，2Fe²⁺+MnO₂+4H⁺═2Fe³⁺+Mn²⁺+2H₂O．
①已知濾渣1的主要成分為S、SiO₂等，其附著在礦粉顆粒表面使上述反應(yīng)受阻，此時(shí)加入H₂O₂，利用其迅速分解產(chǎn)生的大量氣泡可破除該不利影響．分析導(dǎo)致H₂O₂迅速分解的因素是 ．
②礦粉顆粒表面附著物被破除后，H₂O₂可繼續(xù)與MnO₂在酸性條件下反應(yīng)，產(chǎn)生更多Mn²⁺，并伴有氣體生成，該反應(yīng)的離子方程式是 ．
③H₂O₂除上述作用外，還可以將溶液中未與MnO₂反應(yīng)的Fe²⁺轉(zhuǎn)化為Fe³⁺，其目的是：．
（3）“調(diào)pH”時(shí)調(diào)節(jié)溶液pH范圍為4.7～6.0，此時(shí)“濾渣2”的主要成分為 （填化學(xué)式）．
（4）“用NH₄F除雜”時(shí)，溶液體系中的Ca²⁺和Mg²⁺形成氟化物沉淀．若沉淀后上層清液中c（F^-）=c（F²）=0.05mol/L，則=[已知K_sp（MgF₂）=5.0×10^-11，K_sp（CaF₂）=2.5×10^-9]．

3．碲（Te）為第ⅥA元素，其單質(zhì)憑借優(yōu)良的性能成為制作合金添加劑、半導(dǎo)體、光電元件的主體材料，并被廣泛應(yīng)用于冶金、航空航天、電子等領(lǐng)域。可從精煉銅的陽極泥（主要成分為Cu₂Te）中回收碲。工藝流程圖如下：

（1）“焙燒”后，碲主要以TeO₂形式存在，寫出相應(yīng)反應(yīng)的化學(xué)方程式：。
（2）為了選擇最佳的焙燒工藝，進(jìn)行了溫度和硫酸加入量的條件試驗(yàn)，結(jié)果如下表所示：

溫度/℃	硫酸加入量（理論量倍數(shù)）	浸出率/%
		Cu	Te
450	1.25	77.3	2.63
460	1.00	80.29	2.81
	1.25	89.86	2.87
	1.50	92.31	7.70
500	1.25	59.83	5.48
550	1.25	11.65	10.63

則焙燒工藝中應(yīng)選擇的適宜條件為 。
（3）濾渣1在堿浸時(shí)發(fā)生的化學(xué)方程式為 。
（4）工藝（Ⅰ）中，“還原”時(shí)發(fā)生的總的離子方程式為 。
（5）由于工藝（Ⅰ）中“氧化”對(duì)溶液和物料條件要求高，有研究者采用工藝（Ⅱ）獲得碲，則“電積”過程中，陰極的電極反應(yīng)式為 。
（6）工業(yè)生產(chǎn)中，濾渣2經(jīng)硫酸酸浸后得濾液3和濾渣3。
①濾液3與濾液1合并。進(jìn)入銅電積系統(tǒng)。該處理措施的優(yōu)點(diǎn)為 。
②濾渣3中若含Au和Ag,可用 將二者分離。（填字母）
A．王水
B．濃氫氧化鈉溶液
C．稀硝酸
D．濃鹽酸