如圖甲所示，面積很大的兩塊平行金屬板A、B豎直放置。虛線MN表示與金屬板A、B平行且等距的一個(gè)平面，此面到A、B的距離都是L，此面上會(huì)源源不斷地產(chǎn)生某種微粒。這些微粒產(chǎn)生后，從靜止開始運(yùn)動(dòng)，若微粒一旦碰到金屬板A、B，就會(huì)被吸附在板上不再運(yùn)動(dòng)。以第一個(gè)微粒釋放時(shí)為計(jì)時(shí)零點(diǎn)，由于控制裝置的存在，微粒在不同時(shí)刻的加速度變化規(guī)律如圖乙所示，變化周期為T，以垂直于板向右為正方向，且L、T和a之間滿足L=

3

64

a

T

2

。已知在0～T時(shí)間內(nèi)平面MN上隨時(shí)間均勻產(chǎn)生了共3200個(gè)微粒，且每個(gè)微粒從平面MN上不同的地方產(chǎn)生，軌跡不會(huì)相互干擾，微粒產(chǎn)生后，平面MN不會(huì)再對(duì)微粒的運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生任何影響。求：
（1）第一個(gè)微粒到達(dá)A板所用的時(shí)間（結(jié)果用T表示）；
（2）t=

T

4

時(shí)產(chǎn)生的微粒到達(dá)A板時(shí)的速度大??；
（3）

1

2

T～T產(chǎn)生的微粒，有多少個(gè)能到達(dá)A板。