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光刻機采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上，是制造芯片的核心裝備．ArF準分子激光是光刻機常用光源之一，其波長為0.000000193米，該光源波長用科學記數(shù)法表示為（　?。?/div>

A．193×10⁶米	B．193×10^-9米
C．1.93×10^-7米	D．1.93×10^-9米

【答案】C

【解答】

【點評】

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發(fā)布：2024/10/19 9:0:1組卷：174引用：1難度：0.8

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