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中國(guó)芯片蝕刻技術(shù)國(guó)際領(lǐng)先。NF3氣體用于進(jìn)行硅芯片蝕刻時(shí)的產(chǎn)物均為氣體,在蝕刻物表面不留任何殘留物。該反應(yīng)的微觀示意圖如圖,下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是( ?。?br />菁優(yōu)網(wǎng)?
【答案】C
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布:2024/6/30 8:0:9組卷:9引用:1難度:0.5
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    發(fā)布:2024/9/20 4:0:8組卷:16引用:1難度:0.5
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    發(fā)布:2024/9/21 22:0:10組卷:28引用:3難度:0.7
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