2.為了加快實(shí)現(xiàn)我國(guó)高水平科技自立自強(qiáng),某科技公司逐年加大高科技研發(fā)投入.圖1是該公司2013年至2022年的年份代碼x和年研發(fā)投入y(單位:億元)的散點(diǎn)圖,其中年份代碼1-10分別對(duì)應(yīng)年份2013-2022.
根據(jù)散點(diǎn)圖,分別用模型①y=bx+a,②作為年研發(fā)投入y關(guān)于年份代碼x的經(jīng)驗(yàn)回歸方程模型,并進(jìn)行殘差分析,得到圖2所示的殘差圖.結(jié)合數(shù)據(jù),計(jì)算得到如下表所示的一些統(tǒng)計(jì)量的值:
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75 |
2.25 |
82.5 |
4.5 |
120 |
28.35 |
表中
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(1)根據(jù)殘差圖,判斷模型①和模型②哪一個(gè)更適宜作為年研發(fā)投入y關(guān)于年份代碼x的經(jīng)驗(yàn)回歸方程模型?并說(shuō)明理由;
(2)根據(jù)(1)中所選模型,求出y關(guān)于x的經(jīng)驗(yàn)回歸方程,并預(yù)測(cè)該公司2028年的高科技研發(fā)投入.
附:對(duì)于一組數(shù)據(jù)(x
1,y
1),(x
2,y
2),?,(x
n,y
n),其經(jīng)驗(yàn)回歸直線
=
+
x??的斜率和截距的最小二乘估計(jì)分別為
.