1．為了加快實(shí)現(xiàn)我國(guó)高水平科技自立自強(qiáng)，某科技公司逐年加大高科技研發(fā)投入．圖1是該公司2013年至2022年的年份代碼x和年研發(fā)投入y（單位：億元）的散點(diǎn)圖，其中年份代碼1-10分別對(duì)應(yīng)年份2013-2022．

根據(jù)散點(diǎn)圖，分別用模型①y=bx+a,②作為年研發(fā)投入y關(guān)于年份代碼x的經(jīng)驗(yàn)回歸方程模型，并進(jìn)行殘差分析，得到圖2所示的殘差圖．結(jié)合數(shù)據(jù)，計(jì)算得到如下表所示的一些統(tǒng)計(jì)量的值：

y	t	10 ∑ i = 1 （ x i - x ） 2	10 ∑ i = 1 （ t i - t ） 2	10 ∑ i = 1 （ y i - y ） （ x i - x ）	10 ∑ i = 1 （ y i - y ） （ t i - t ）
75	2.25	82.5	4.5	120	28.35

表中．
（1）根據(jù)殘差圖，判斷模型①和模型②哪一個(gè)更適宜作為年研發(fā)投入y關(guān)于年份代碼x的經(jīng)驗(yàn)回歸方程模型？并說(shuō)明理由；
（2）根據(jù)（1）中所選模型，求出y關(guān)于x的經(jīng)驗(yàn)回歸方程，并預(yù)測(cè)該公司2028年的高科技研發(fā)投入．
附：對(duì)于一組數(shù)據(jù)（x₁，y₁），（x₂，y₂），?，（x_n，y_n），其經(jīng)驗(yàn)回歸直線=+x??的斜率和截距的最小二乘估計(jì)分別為．

2．某科技公司積極響應(yīng)，加大高科技研發(fā)投入，現(xiàn)對(duì)近十年來(lái)高科技研發(fā)投入情況分析調(diào)研，統(tǒng)計(jì)了近十年的研發(fā)投入y（單位：億元）與年份代碼x共10組數(shù)據(jù)，其中年份代碼x=1，2，…，10分別指2013年，2014年，…，2022年．現(xiàn)用模型①y=bx+a,②分別進(jìn)行擬合，由此得到相應(yīng)的回歸方程，并進(jìn)行殘差分析，得到下圖所示的殘差圖．
根據(jù)收集到的數(shù)據(jù)，計(jì)算得到下表數(shù)據(jù)，其中，．

y	t	10 ∑ i = 1 （ x i - x ） 2	10 ∑ i = 1 （ t i - t ） 2	10 ∑ i = 1 （ y i - y ） （ x i - x ）	10 ∑ i = 1 （ y i - y ） （ t i - t ）
75	2.25	82.5	4.5	121.4	28.82

（1）根據(jù)殘差圖，比較模型①②的擬合效果，應(yīng)選擇哪個(gè)模型？并說(shuō)明理由；
（2）根據(jù)①中所選模型，求出y關(guān)于x的回歸方程；根據(jù)該模型，求該公司2028年高科技研發(fā)投入y的預(yù)報(bào)值．（回歸系數(shù)精確到0.01）
附：對(duì)于一組具有線性相關(guān)關(guān)系的數(shù)據(jù)（x₁，y₁），（x₂，y₂），…，（x_n，y_n），其回歸直線的斜率和截距的最小二乘估計(jì)分別為，．

3．觀察下列四幅殘差圖，滿足一元線性回歸模型中對(duì)隨機(jī)誤差的假定的是（　?。?/div>