為了加快實現(xiàn)我國高水平科技自立自強,某科技公司逐年加大高科技研發(fā)投入.圖1是該公司2013年至2022年的年份代碼x和年研發(fā)投入y(單位:億元)的散點圖,其中年份代碼1-10分別對應(yīng)年份2013-2022.
根據(jù)散點圖,分別用模型①y=bx+a,②作為年研發(fā)投入y關(guān)于年份代碼x的經(jīng)驗回歸方程模型,并進行殘差分析,得到圖2所示的殘差圖.結(jié)合數(shù)據(jù),計算得到如下表所示的一些統(tǒng)計量的值:
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75 |
2.25 |
82.5 |
4.5 |
120 |
28.35 |
表中
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(1)根據(jù)殘差圖,判斷模型①和模型②哪一個更適宜作為年研發(fā)投入y關(guān)于年份代碼x的經(jīng)驗回歸方程模型?并說明理由;
(2)根據(jù)(1)中所選模型,求出y關(guān)于x的經(jīng)驗回歸方程,并預(yù)測該公司2028年的高科技研發(fā)投入.
附:對于一組數(shù)據(jù)(x
1,y
1),(x
2,y
2),?,(x
n,y
n),其經(jīng)驗回歸直線
=
+
x??的斜率和截距的最小二乘估計分別為
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