24.Ⅰ.過(guò)氧化氫和鹽酸的混合溶液可以刻蝕含銅的電路板。
(1)請(qǐng)寫(xiě)出用過(guò)氧化氫和鹽酸刻蝕電路板時(shí)發(fā)生的離子反應(yīng)方程式:
。
(2)當(dāng)反應(yīng)一段時(shí)間后,隨著溶液變藍(lán),氣泡產(chǎn)生的速率加快,可能的原因是
。
Ⅱ.含銅電路板也可以用FeCl
3進(jìn)行刻蝕,對(duì)刻蝕后的液體(FeCl
3、FeCl
2和CuCl
2)進(jìn)行處理以提取FeCl
2?4H
2O、CuSO
4?5H
2O,流程如圖:
(1)從濾液A中提取FeCl
2?4H
2O的操作為:加入Fe粉后,應(yīng)先濃縮濾液至出現(xiàn)
,趁熱過(guò)濾,取溶液,
,過(guò)濾、洗滌、干燥。
(2)檢驗(yàn)溶液B中提取出的Cu上粘附的Cl
-已經(jīng)洗凈的操作為:
,制備CuSO
4?5H
2O時(shí),將銅溶解于H
2SO
4、HNO
3的混酸中,此過(guò)程中產(chǎn)生的紅棕色氣體為
產(chǎn)物(選填“氧化”或“還原”)。
Ⅲ.利用滴定法可測(cè)定所得CuSO
4?5H
2O的純度,操作如下:
①取agCuSO
4?5H
2O樣品,加入足量NH
4F-HF溶液溶解(F
-用于防止Fe
3+干擾檢驗(yàn):Fe
3++6F
-═
)。
②滴加足量KI溶液,發(fā)生反應(yīng)2Cu
2++4I
-═2CuI↓+I
2。
③再用cmol/LNa
2S
2O
3標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定,以淀粉溶液作指示劑,到達(dá)滴定終點(diǎn)時(shí)消耗亞硫酸鈉標(biāo)準(zhǔn)溶液VmL,發(fā)生的反應(yīng)為:I
2+2S
2═S
4+2I
-。
(1)已知NH
4F溶液呈酸性,則水解程度
F
-(填“>”、“<”或“=”),稀釋后消耗
的值
(選填“增大”、“減小”或“不變”)。
(2)接近滴定終點(diǎn)時(shí),向溶液中滴加KSCN,會(huì)發(fā)現(xiàn)CuI沉淀轉(zhuǎn)化為CuSCN,其沉淀轉(zhuǎn)化的原因是
。已知CuI能夠吸附大量I
2,若不加KSCN,則測(cè)得CuSO
4?5H
2O的純度
(選填“偏高”、“偏低”或“不變”)。
(3)計(jì)算CuSO
4?5H
2O的純度:
(用a、c、V的代數(shù)式表示)。