2016-2017學年福建省廈門一中高一(下)開學化學試卷
發(fā)布:2024/12/9 4:30:2
一、選擇題(本大題共15小題,每小題3分,共45分.毎小題只有一個選項符合題意.)
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1.下列實驗操作與安全事故處理錯誤的是( )
組卷:22引用:3難度:0.7 -
2.下列各組混合物中,能用分液漏斗進行分離的是( ?。?/h2>
組卷:47引用:19難度:0.9 -
3.下列說法正確的是(NA表示阿伏加德羅常數(shù))( ?。?/h2>
組卷:8引用:1難度:0.9 -
4.有BaCl2和NaCl的混合溶液aL,將它均分成兩份.一份滴加稀硫酸,使Ba2+離子完全沉淀;另一份滴加AgNO3溶液,使Cl-離子完全沉淀.反應(yīng)中消耗xmol H2SO4、ymol AgNO3.據(jù)此得知原混合溶液中的c(Na+)為( ?。?/h2>
組卷:195引用:15難度:0.7 -
5.下列關(guān)于膠體和溶液的說法中,正確的是( ?。?/h2>
組卷:40引用:1難度:0.9 -
6.下列反應(yīng)的離子方程式正確的是( ?。?/h2>
組卷:9引用:2難度:0.7 -
7.水溶液中能大量共存的一組離子是( )
組卷:0引用:1難度:0.8
二、填空題(本題包括6小題,共65分)
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20.現(xiàn)有含有少量NaCl、Na2SO4、Na2CO3等雜質(zhì)的NaNO3溶液,選擇適當?shù)脑噭┏ルs質(zhì),得到純凈的NaNO3固體,實驗流程如圖所示。
(1)沉淀A的主要成分是
(2)①②③中均進行的分離操作是
(3)溶液3經(jīng)過處理可以得到NaNO3固體,溶液3中肯定含有的雜質(zhì)是
(4)實驗探究小組在實驗中需要用到450mL、6mol?L-1的HNO3溶液,但是在實驗室中只發(fā)現(xiàn)一瓶8mol?L-1的HNO3溶液,該小組用8mol?L-1的HNO3溶液配制所需溶液。
①實驗中所需的玻璃儀器包括
②該實驗中需要量取8mol?L-1的HNO3溶液
③下列實驗操作中導致配制的溶液濃度偏高的是
A.取8mol?L-1的HNO3溶液溶液時仰視刻度線
B.量取用的量筒水洗后未進行任何操作
C.8mol?L-1的HNO3溶液從量筒轉(zhuǎn)移至燒杯后用水洗滌量筒并全部轉(zhuǎn)移至燒杯
D.定容時仰視刻度線
E.定容后,將容量瓶振蕩搖勻后,發(fā)現(xiàn)液面低于刻度線,未進行任何操作
(5)某同學轉(zhuǎn)移溶液的操作如圖所示,該同學操作中的錯誤是
A.為了美觀 B.為了統(tǒng)一標準 C.為了提高準確度 D.方便刻畫。組卷:6引用:2難度:0.5 -
21.在半導體工業(yè)中,有一道工序叫燒氫。燒氫的工藝流程如圖所示。工作時,是將石英管D出口處氫氣點燃。半導體硅片、焊片和金屬零件從石英管口送入加熱區(qū),在氫氣還原氣氛中加熱使焊片熔化,將單晶硅與金屬零件焊接在一起。焊接后再將零件拉至冷卻區(qū),冷卻后取出。燒氫工藝中的氫氣純度要求極高,工業(yè)氫氣雖含氫量達99.9%,但仍含有極微量的水蒸氣和氧氣,所以點燃氫氣前應(yīng)檢驗氫氣的純度。試回答下列問題。
(1)裝置B的作用是
B中發(fā)生反應(yīng)的化學方程式是
(2)裝置C中的物質(zhì)是
(3)點燃氫氣前將E(帶導管膠塞)接在D的出口處,目的是
(4)裝置A是安全瓶,可以防止氫氣燃燒回火,引起爆炸,其中填充大量純銅屑的作用是組卷:6引用:3難度:0.1