15.前不久,中科院光電技術(shù)研究所宣布,其承擔(dān)的國家重大科研裝備研制項(xiàng)目“超分辨光刻裝備研制”通過驗(yàn)收。這是世界上首臺(tái)用紫外光源實(shí)現(xiàn)了22納米分辨率的光刻機(jī)。光刻機(jī)是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路(芯片)的核心設(shè)備,光刻機(jī)的曝光波長越短,分辨率越高?!敖]式光刻”是一種通過在光刻膠和投影物鏡之間加入浸沒液體,從而減小曝光波長提高分辨率的技術(shù)。如圖所示,若浸沒液體的折射率為1.40,當(dāng)不加液體時(shí)光刻膠的曝光波長為189nm,則加.上液體時(shí)光在液體中的傳播速度為
m/s,光刻膠的曝光波長變?yōu)?
nm(光在真空中的傳播速度c=3.0×10
8m/s)(計(jì)算結(jié)果保留三位有效數(shù)字)。