20.(1)①請完成并配平下列化學(xué)方程式,再用雙線橋標(biāo)明電子轉(zhuǎn)移的方向和數(shù)目:
KMnO
4+
HCl═
KCl+
MnCl
2+
Cl
2↑+
。
②HCl在上述反應(yīng)中體現(xiàn)的性質(zhì)有
;
③氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比為
;
④若標(biāo)況下生成5.6L的氣體,則轉(zhuǎn)移電子的數(shù)目為
;
(2)三氟化氮(NF
3)是微電子工業(yè)中優(yōu)良的等離子刻蝕氣體,它在潮濕的環(huán)境中發(fā)生如下反應(yīng):3NF
3+5H
2O═2NO+HNO
3+9HF。在反應(yīng)中,NF
3是
劑,氧化劑和還原劑物質(zhì)的量之比為
;
(3)在一定條件下,PbO
2與Cr
3+反應(yīng),產(chǎn)物是Cr
2O
72-和Pb
2+,則與1molCr
3+反應(yīng)所需PbO
2的物質(zhì)的量為
;
(4)工業(yè)廢水中的Cr
2O
72-有毒,常在酸性條件下用Fe
2+做處理劑,將Cr
2O
72-轉(zhuǎn)化為Cr
3+,反應(yīng)的離子方程式
。