研究NOx之間的轉(zhuǎn)化具有重要意義。
（1）已知：N2O4（g）?2NO2（g）ΔH＞0
將一定量N2O4氣體充入恒容的密閉容器中，控制反應(yīng)溫度為T1。
①下列可以作為反應(yīng)達到平衡的判據(jù)是 A、EA、E。
A．氣體的壓強不變B．v正（N2O4）=2v逆（NO2）C．K不變
D．容器內(nèi)氣體的密度不變E．容器內(nèi)顏色不變
②t1時刻反應(yīng)達到平衡，混合氣體平衡總壓強為p,N2O4氣體的平衡轉(zhuǎn)化率為75%，則反應(yīng)N2O4（g）═2NO2（g）的平衡常數(shù)Kp=367p367p（對于氣相反應(yīng)，用某組分B的平衡壓強p（B）代替物質(zhì)的量濃度c（B）也可表示平衡常數(shù)，記作Kp，如p（B）=p?x（B），p為平衡總壓強，x（B）為平衡系統(tǒng)中B的物質(zhì)的量分數(shù)）。
③反應(yīng)溫度T1時，c（N2O4）隨t（時間）變化曲線如圖1，畫出0～t2時段，c（NO2）隨t變化曲線。
保持其它條件不變，改變反應(yīng)溫度為T2（T2＞T1），再次畫出0～t2時段，c（NO2）隨t變化趨勢的曲線。
（2）NO氧化反應(yīng)：2NO（g）+O2（g）═2NO2（g）分兩步進行，其反應(yīng)過程能量變化示意圖如圖2。
Ⅰ2NO（g）→N2O2（g）ΔH1
ⅡN2O2（g）+O2（g）→2NO2（g）ΔH2
①決定NO氧化反應(yīng)速率的步驟是 ⅡⅡ（填“Ⅰ”或“Ⅱ”）。
②在恒容的密閉容器中充入一定量的NO和O2氣體，保持其它條件不變，控制反應(yīng)溫度分別為T3和T4（T4＞T3），測得c（NO）隨t（時間）的變化曲線如圖3。
轉(zhuǎn)化相同量的NO，在溫度 T4T4（填“T3”或“T4”）下消耗的時間較長，試結(jié)合反應(yīng)過程能量圖（圖2）分析其原因 ΔH1＜0，溫度升高，反應(yīng)Ⅰ平衡逆移，c（N2O2）減小，濃度降低的影響大于溫度對反應(yīng)Ⅱ速率的影響ΔH1＜0，溫度升高，反應(yīng)Ⅰ平衡逆移，c（N2O2）減小，濃度降低的影響大于溫度對反應(yīng)Ⅱ速率的影響。
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【答案】A、E；；Ⅱ；T4；ΔH1＜0，溫度升高，反應(yīng)Ⅰ平衡逆移，c（N2O2）減小，濃度降低的影響大于溫度對反應(yīng)Ⅱ速率的影響
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【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/5/23 20:38:36組卷：464引用：9難度：0.7
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1．在催化劑作用下，可逆反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）在溫度為323K和343K時SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間變化的結(jié)果如圖所示（已知：反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分數(shù)）。下列說法錯誤的是（ ?。?/h2>發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：40引用：1難度：0.5 -
2．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉栴}：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ/mol
SiHCl3（g）+HCl（g）═SiCl4（g）+H2（g）△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學方程式是。
（2）鋁鋰形成化合物LiAlH4既是金屬儲氫材料又是有機合成中的常用試劑，遇水能得到無色溶液并劇烈分解釋放出H2，請寫出其水解反應(yīng)化學方程式。LiAlH4在化學反應(yīng)中通常作（填“氧化”或“還原”）劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時，平衡轉(zhuǎn)化率為，該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”“吸熱”）。
②323.15K時，要縮短反應(yīng)達到平衡的時間，可采取的最佳措施是。
（4）比較a、b處反應(yīng)速率的大小：vavb （填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2_SiHCl3，
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分數(shù)，則在353.15K時=k1k2（保留3位小數(shù)）。
（5）硅元素最高價氧化物對應(yīng)的水化物是H2SiO3，室溫下，0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液，堿性更強的是，其原因是。
已知：H2SiO3：Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12，H2CO3：Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：61引用：2難度：0.2 -
3．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉栴}：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
①Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（ g）+2H2（g）△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 （g）+HCl（g）═SiCl4 （g）+H2（g）△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學方程式是。
（2）工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時，平衡轉(zhuǎn)化率為。該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”或“吸熱”）。②323.15K時，要縮短反應(yīng)達到平衡的時間，可采取的措施有。（答一種即可）
③比較a、b處反應(yīng)速率的大小：vavb（填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2SiHCl3 v逆=k2xSiH2Cl2 xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分數(shù)，則在353.15K時=k1k2（保留3位小數(shù)）。發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：19引用：1難度：0.5
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