如圖1是地殼中含量較大的九種元素分布圖，圖中X、Y、Z分別表示不同元素。

回答下列問題：
（1）X的名稱為

氧

氧

。
（2）Y的氧化物屬于

兩性

兩性

氧化物。（填“酸性”、“兩性”或“堿性”）。
（3）常用ZCl₃溶液作為刻制印刷電路時的“腐蝕液”，該反應(yīng)的離子方程式為

2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺

2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺

，區(qū)別ZCl₃溶液和Z（OH）₃膠體的方法是

丁達(dá)爾效應(yīng)

丁達(dá)爾效應(yīng)

。
（4）由粗硅制備硅烷（SiH₄）的基本流程如圖2所示（反應(yīng)條件均省略）：
已知：反應(yīng)Ⅰ、Ⅱ的化學(xué)方程式分別為Si+3HCl═SiHCl₃+A，SiHCl₃+B═Si+3HCl（均已配平）。
①A的化學(xué)式為

H₂

H₂

。
②反應(yīng)Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ中，有

3

3

個屬于氧化還原反應(yīng)。
③反應(yīng)Ⅳ中生成的SiH₄和NH₃兩種氣體的物質(zhì)的量之比為

1：4

1：4

。