中國(guó)芯片蝕刻（蝕刻是使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除部分材料的技術(shù)）技術(shù)國(guó)際領(lǐng)先。用NF3蝕刻硅芯片，產(chǎn)物均為氣體，在蝕刻物表面不留任何殘留物。該反應(yīng)微觀過(guò)程如圖所示，下列說(shuō)法正確的是（ ?。?br />
【考點(diǎn)】微粒觀點(diǎn)及模型圖的應(yīng)用．
【答案】D
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布：2024/7/15 8:0:9組卷：4引用：3難度：0.5
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1．有關(guān)水電解過(guò)程微觀示意圖，下列說(shuō)法不正確的是（ ?。?br />
發(fā)布：2024/12/12 18:0:2組卷：24引用：3難度：0.5 -
2．我國(guó)科學(xué)家合成了新型催化劑用于實(shí)現(xiàn)二氧化碳高效轉(zhuǎn)化得到甲醇（CH3OH），這可以緩解碳排放引起的溫室效應(yīng)，如圖是該反應(yīng)的微觀過(guò)程。
（1）以上4種物質(zhì)屬于氧化物的有（寫(xiě)化學(xué)式）：。
（2）該化學(xué)變化前后保持不變的是。
A.原子數(shù)目
B.原子種類(lèi)
C.分子種類(lèi)
D.分子數(shù)目
（3）據(jù)如圖中的微觀過(guò)程，寫(xiě)出該反應(yīng)的化學(xué)方程式。發(fā)布：2024/12/28 12:0:1組卷：13引用：3難度：0.5 -
3．納米二氧化硅（SiO2）俗稱白炭黑，具有抗紫外線、提高其他材料抗老化等特性，用途廣泛。制備二氧化硅的反應(yīng)微觀示意圖如下。下列有關(guān)敘述正確的是（ ?。?img alt="菁優(yōu)網(wǎng)" src="https://img.jyeoo.net/quiz/images/202105/329/7e51d812.png" style="vertical-align:middle" />
發(fā)布：2024/12/22 8:0:1組卷：2引用：1難度：0.5
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