高純度的氫氟酸是制造芯片的重要原料之一。
（1）已知：HF（aq）?H⁺（aq）+F^-（aq）ΔH=-10.4kJ/mol；H⁺（aq）+OH^-（aq）═H₂O（l）ΔH=-57.3kJ/mol則：HF（aq）+NaOH（aq）═NaF（aq）+H₂O（l）的ΔH=。
（2）HF無論是氣態(tài)還是在水溶液中均可二聚形成（HF）₂。HF能二聚的原因是 ，寫出（HF）₂發(fā)生第二步電離的電離方程式 。
（3）如圖為恒溫、帶有可自由移動(dòng)隔板的剛性容器。當(dāng)兩邊分別充入4g氦氣和20g單分子態(tài)的HF氣體時(shí)，隔板位于“5”處，隔板兩邊容器內(nèi)的壓強(qiáng)均為100kPa。

若固定隔板于“5”處，當(dāng)右側(cè)容器內(nèi)反應(yīng)2HF（g）?（HF）₂（g）達(dá)到平衡狀態(tài)時(shí)，右側(cè)容器內(nèi)壓強(qiáng)為P₁；松開隔板，隔板移至“6”處并達(dá)到新的平衡，此時(shí)右側(cè)容器內(nèi)壓強(qiáng)為P₂，則P₁P₂（填“大于”、“小于”或“等于”）。該溫度下，2HF（g）?（HF）₂（g）反應(yīng)的平衡常數(shù)K_P=kPa^-1。
（K_P為以分壓表示的平衡常數(shù)，計(jì)算結(jié)果保留2位有效數(shù)字）
（4）若將上述容器改為絕熱容器，固定隔板在“5”處，下列不能說明右側(cè)容器內(nèi)反應(yīng)已達(dá)平衡狀態(tài)的是 。
A．容器右側(cè)氣體的密度不再改變
B．容器右側(cè)的溫度不再改變
C．容器右側(cè)氣體的壓強(qiáng)不再改變
D．容器右側(cè)氣體的平均相對(duì)分子質(zhì)量不再改變
E．2v（HF）_正=v[（HF）₂]_逆
（5）某溫度下，將分析濃度（總濃度）相同的HCl、HF和CH₃COOH三種溶液，分別加水稀釋時(shí)，溶液pH變化如圖所示。

圖中，氫氟酸溶液在稀釋初期的pH上升特別快，據(jù)此判斷，（HF）₂與HF的酸性相比，較強(qiáng)的是 。
（6）NaF和HF的混合溶液具有一定的緩沖能力，即加入少量的酸或堿時(shí)，溶液的pH基本保持不變。試結(jié)合方程式和必要的文字解釋之 。

【考點(diǎn)】硅的性質(zhì)及用途；電離方程式的書寫；化學(xué)平衡的計(jì)算；化學(xué)平衡狀態(tài)的判斷．

【答案】-67.7kJ/mol；HF分子間可形成氫鍵；?H⁺+2F^-；小于；0.24；AE；（HF）₂；溶液中存在平衡HF?F^-+H⁺，F(xiàn)^-和HF的濃度均較大，當(dāng)加入少量酸時(shí)，平衡左移，當(dāng)加入少量堿時(shí)，平衡右移，溶液中c（H⁺）變化不大，故溶液pH基本不變（表達(dá)合理且有平衡方程式即可）