一種以甲烷為燃料、含銅氧化物為載氧體的化學鏈燃燒反應原理如圖1。
（1）科學利用燃燒為人類服務，有利于社會可持續(xù)發(fā)展。
①甲烷燃燒時，放出放出（填“吸收”或“放出”）熱量。
②與傳統(tǒng)燃燒方式相比，化學鏈燃燒可避免燃料和空氣直接接觸，有利于捕集CO2，防止其大量排入空氣，造成 溫室效應溫室效應。
（2）CuO進入燃料反應器與甲烷發(fā)生反應：8CuO+CH4加熱4Cu2O+CO2+2H2O，生成的Cu2O再進入空氣反應器，在一定溫度下發(fā)生反應 2Cu2O+O2 一定溫度 4CuO2Cu2O+O2 一定溫度 4CuO（填化學方程式），實現(xiàn)載氧體的循環(huán)再生。
（3）從空氣反應器排出的氣體中O2體積分數(shù)隨反應溫度變化關(guān)系如圖2所示。
①在800～1100℃間，升高溫度，排出的氣體中N2體積分數(shù) 減小減小（填“增大”或“減小”）。
②空氣反應器中最適宜的反應溫度范圍是 AA。（填序號）
A．800-900℃
B．900-1000℃
C．1000-1030℃
D．1030-1100℃
加熱
一定溫度
一定溫度
【答案】放出；溫室效應；2Cu2O+O2 4CuO；減?。籄
一定溫度
【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/4/20 14:35:0組卷：105引用：2難度：0.4
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1．氧化鎂在醫(yī)藥等行業(yè)應用廣泛。實驗室以菱鎂礦（主要成分為MgCO3，含少量FeCO3，其他雜質(zhì)不溶于水和酸） 為原料制備高純氧化鎂的實驗流程如圖1：
（1）為了提高“酸浸”的效果，可采取的措施有：適當升高溫度、。MgCO3與稀硫酸反應的化學方程式為。
（2）“氧化”過程中，將FeSO4全部轉(zhuǎn)化為Fe2（SO4）3，然后加氨水，調(diào)節(jié)溶液的pH范圍為。（已知部分金屬陽離子以氫氧化物形成沉淀時溶液的pH見表）
（3）過濾后得到濾渣2和濾液，濾渣2是對應離子 Fe3+ Fe2+ Mg2+ 開始沉淀時的pH 2.7 7.9 9.4 完全沉淀時的pH 3.7 9.6 11.4 （填化學式），此時濾液中的陽離子一定含有（填離子符號）。
（4）煅燒過程存在以下反應：
2MgSO4+C2MgO+2SO2↑+CO2↑800℃
MgSO4+CMgO+SO2↑+CO↑800℃
MgSO4+3CMgO+S↑+3CO↑800℃
已知：①硫在常溫下是一種淡黃色固體，硫的熔點約為115.2℃，沸點約為444.7℃；②高錳酸鉀溶液與SO2反應會褪色，且只吸收SO2，不吸收CO2； ③堿溶液既吸收SO2，又吸收CO2．利用如圖2裝置對煅燒產(chǎn)生的氣體進行檢驗并收集。
①集氣瓶B中盛放的溶液是（填字母），C中盛放的溶液是（填字母）。
a.Ca（OH）2溶液
b.KMnO4溶液
c.NaOH溶液
d.BaCl2溶液
②裝置D的作用是。發(fā)布：2024/12/25 16:0:1組卷：127引用：2難度：0.5 -
2．硅單質(zhì)及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：
（1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當前制 備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如圖：
①寫出由純SiHCl3，制備高純硅的化學反應方程式_。
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學反應方程式；H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是。
（2）石英砂的主要成分是二氧化硅，高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料----光導纖維。二氧化硅和二氧化碳一樣，也能與氫氧化鈉溶液生成硅酸鈉（其水溶液稱水玻璃）和水。請寫出二氧化硅與氫氧化鈉溶液的化學方程式。發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：23引用：1難度：0.5 -
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（1）“煅燒”的化學方程式為，該反應屬于基本反應類型中的反應。
（2）“混合”時不能用鐵制容器，原因是（用化學方程式表示）。
（3）“混合”時需不斷攪拌，目的是。
（4）“混合”過程中發(fā)生復分解反應的化學方程式為。
（5）“混合”后得到的波爾多液溫度明顯高于室溫，原因是。
（6）用可以測定波爾多液酸堿度。發(fā)布：2024/12/25 17:30:2組卷：50引用：2難度：0.5
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