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2751．短周期主族元素W、X、Y、Z的原子序數(shù)依次增大，W、Y同主族，兩種元素能形成兩種常見化合物；X的簡單離子半徑是同周期簡單離子中最小的。下列說法正確的是（ ?。?/h2>
發(fā)布：2024/12/27 4:0:3組卷：67引用：3難度：0.62752．化學(xué)與生活、生產(chǎn)關(guān)系密切。下列說法正確的是（ ?。?/h2>
發(fā)布：2024/12/27 4:0:3組卷：91引用：2難度：0.5
2753．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉栴}：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ/mol
SiHCl3（g）+HCl（g）═SiCl4（g）+H2（g）△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲(chǔ)氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑，遇水能得到無色溶液并劇烈分解釋放出H2，請(qǐng)寫出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式。LiAlH4在化學(xué)反應(yīng)中通常作（填“氧化”或“還原”）劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為，該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”“吸熱”）。
②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的最佳措施是。
（4）比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐avb （填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2_SiHCl3，
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)=k1k2（保留3位小數(shù)）。
（5）硅元素最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物是H2SiO3，室溫下，0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液，堿性更強(qiáng)的是，其原因是。
已知：H2SiO3：Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12，H2CO3：Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：61引用：2難度：0.22754．水煤氣變換[CO（ g））+H2O（g）═CO2（ g）+H2（ g）]是重要的化工過程，主要用于合成氨、制氫以及合成氣加工等工業(yè)領(lǐng)域中。
Shoichi研究了467℃，489℃時(shí)水煤氣變換中CO和H2分壓隨時(shí)間變化關(guān)系（如圖甲所示），催化劑為氧化鐵，實(shí)驗(yàn)初始時(shí)體系中的和 pCO相等、pCO2和pH2O相等。pH2
計(jì)算曲線a的反應(yīng)在30～90min 內(nèi)的平均速率（a）=vkPa?min-1。
（2）對(duì)于反應(yīng)2SiHCl3（g）═SiH2Cl2（g）+SiCl4（ g），采用大孔弱堿性陰離子交換樹脂催化劑，在323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖乙所示：
比較a、b處反應(yīng)速率大?。簐avb（填“大于”、“小于”或“等于”）．反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，計(jì)算a處的=v正v逆。（保留1位小數(shù)）發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：9引用：3難度：0.6
2755．對(duì)于反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g），采用大孔弱堿性陰離子交換樹脂催化劑，在323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示。
比較A、B處反應(yīng)速率大?。簐A（填“大于”“小于”或“等于”）vB。
反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，計(jì)算A處的=v正v逆。（保留1位小數(shù)）發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：12引用：1難度：0.6
2756．在催化劑作用下，可逆反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）在溫度為323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示（已知：反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)）。下列說法錯(cuò)誤的是（ ?。?/h2>發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：40引用：1難度：0.5
2757．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉栴}：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
①Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（ g）+2H2（g）△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 （g）+HCl（g）═SiCl4 （g）+H2（g）△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為。該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”或“吸熱”）。②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的措施有。（答一種即可）
③比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐avb（填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2SiHCl3 v逆=k2xSiH2Cl2 xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)=k1k2（保留3位小數(shù)）。發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：19引用：1難度：0.52758．三氯氫硅（ SiHCl3）是制備硅烷、多晶硅的重要原料?；卮鹣铝袉栴}：
對(duì)于反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）ΔH＞0，采用大孔弱堿性陰離子交換樹脂催化劑，在323K和343K時(shí)SHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示。
（1）343K時(shí)反應(yīng)的平衡轉(zhuǎn)化率a=%．平衡常數(shù)K343K=（保留2位小數(shù)）
（2）在343K下：要提高 SiHCl3轉(zhuǎn)化率，可采取的措施是；要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的措施有
（3）比較a、b處反應(yīng)速率大?。簐avb（填“大于”“小于”或“等于”）。已知平衡常數(shù)K=，v正=k正x2SiHCl3，v逆=k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，計(jì)算a處k正k逆=a正a負(fù)（保留1位小數(shù)）。發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：46引用：7難度：0.52759．已知：2SiHCl3（g）=SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）△H=Q kJ?mol-1，其平衡常數(shù)隨溫度變化如下表所示：
在323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示。溫度/k 323 343 400 平衡常數(shù) 0.01 0.02 1 
請(qǐng)回答下列問題：
（1）該反應(yīng)的Q0（填“＞”或“＜”）。
（2）代表323K曲線的是（填a或b）
（3）在400K下，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的措施有、。
（4）已知2SiHCl3（g）═SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）的反應(yīng)速率v=v正-v逆，其中v正=k正x2SiHCl3，v逆=k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，計(jì)算a處=v正v逆。
（5）T K時(shí)在體積為10 L的反應(yīng)器中，通入一定量的SiH2Cl2（g）和SiCl4（g），發(fā)生上述反應(yīng)，SiH2Cl2（g）和SiCl4（g）濃度變化如圖所示，則0～4 min時(shí)平均反應(yīng)速率v（SiCl4（g））=。
發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：10引用：1難度：0.7
2760．SiHCl3在催化劑作用下主要發(fā)生反應(yīng)：2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）△H=+48 kJ?mol-1．已知：反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，在323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示。下列說法正確的是（ ?。?/h2>發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：249引用：6難度：0.2
