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中國芯片蝕刻技術國際領先。NF3進行硅芯片蝕刻時的產物均為氣體，在蝕刻物表面不留任何殘留物。該反應微觀示意圖如圖，下列說法正確的是（　?。?br />菁優(yōu)網
【答案】D
【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/6/12 8:0:8組卷：296引用：22難度：0.5
相似題
  • 1．為探究過氧化氫的性質，學習小組進行以下學習活動：
    （1）H2O2不穩(wěn)定，易分解。H2O2分解的符號表達式為
     
    。
    （2）H2O2分解過程中各階段微觀示意圖如圖所示。將圖示按反應前、反應中、反應后排序：
     
    （填標號）。
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    （3）H2O2溶液常用作消毒劑。用一定濃度的H2O2溶液對不同金屬進行腐蝕性實驗，結果如下：
    金屬種類 不銹鋼片 鋁片 銅片
    腐蝕速度（mg/h） 0.001 0.010 0.404
    下列金屬制品用該溶液浸泡消毒時，最易被腐蝕的是
     
    （填序號）。
    A．不銹鋼鍋
    B．鋁盆
    C．銅火鍋
    發(fā)布：2024/9/26 12:0:2組卷：2引用：2難度：0.7
  • 2．硅是制造芯片的主要原料，如圖是某種制取硅反應的微觀示意圖。下列說法不正確的是（　?。?br />菁優(yōu)網
    發(fā)布：2024/9/26 8:0:2組卷：31引用：3難度：0.5
  • 菁優(yōu)網3．如圖是某反應的微觀示意圖，下列說法不正確的是（　?。?/div>
    發(fā)布：2024/9/25 4:0:1組卷：17引用：2難度：0.5
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