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現(xiàn)代化學(xué)工業(yè)中,氨氣是化肥工業(yè)和基本有機(jī)化工的主要原料。在低溫加壓條件下,從空氣中分離出的氮?dú)饪捎脕?lái)合成氨,合成氨的化學(xué)方程式為:N2+3H2
催化劑
高溫高壓
2NH3。
(1)已知同溫同壓下氣體的體積比等于分子個(gè)數(shù)比,請(qǐng)將下面空氣主要成分的微觀示意圖補(bǔ)充完整。
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(2)現(xiàn)用56t氮?dú)鈦?lái)合成氨氣,請(qǐng)問(wèn)需要?dú)錃獾馁|(zhì)量是多少?
【答案】見(jiàn)試題解答內(nèi)容
【解答】
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發(fā)布:2024/6/17 8:0:9組卷:16引用:3難度:0.5
相似題
  • 1.為探究過(guò)氧化氫的性質(zhì),學(xué)習(xí)小組進(jìn)行以下學(xué)習(xí)活動(dòng):
    (1)H2O2不穩(wěn)定,易分解。H2O2分解的符號(hào)表達(dá)式為
     
    。
    (2)H2O2分解過(guò)程中各階段微觀示意圖如圖所示。將圖示按反應(yīng)前、反應(yīng)中、反應(yīng)后排序:
     
    (填標(biāo)號(hào))。
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    (3)H2O2溶液常用作消毒劑。用一定濃度的H2O2溶液對(duì)不同金屬進(jìn)行腐蝕性實(shí)驗(yàn),結(jié)果如下:
    金屬種類(lèi) 不銹鋼片 鋁片 銅片
    腐蝕速度(mg/h) 0.001 0.010 0.404
    下列金屬制品用該溶液浸泡消毒時(shí),最易被腐蝕的是
     
    (填序號(hào))。
    A.不銹鋼鍋
    B.鋁盆
    C.銅火鍋
    發(fā)布:2024/9/26 12:0:2組卷:2引用:2難度:0.7
  • 2.硅是制造芯片的主要原料,如圖是某種制取硅反應(yīng)的微觀示意圖。下列說(shuō)法不正確的是( ?。?br />菁優(yōu)網(wǎng)
    發(fā)布:2024/9/26 8:0:2組卷:31引用:3難度:0.5
  • 菁優(yōu)網(wǎng)3.如圖是某反應(yīng)的微觀示意圖,下列說(shuō)法不正確的是(  )
    發(fā)布:2024/9/25 4:0:1組卷:17引用:2難度:0.5
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