2018年11月29日,國(guó)家重大科研裝備研制項(xiàng)目“超分辨光刻裝備研制”通過驗(yàn)收,該光刻機(jī)光刻分辨力達(dá)到22nm,結(jié)合多重曝光技術(shù)后,可用于制造10nm級(jí)的芯片。下列對(duì)于光的認(rèn)知正確的是( )
【答案】A;B
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布:2024/5/27 14:0:0組卷:22引用:2難度:0.8
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