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制造芯片的基材主要是高純硅。如圖是制備高純硅的一種工藝流程:
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回答下列問題;
(1)反應Ⅰ的化學方程式是
SiO2+2Mg
高溫
Si+2MgO
SiO2+2Mg
高溫
Si+2MgO

(2)過濾所用的玻璃儀器有燒杯、玻璃棒和
漏斗
漏斗
,其中玻璃棒的作用是
引流
引流
,過濾所得粗硅應充分洗滌,以除去表面可能吸附的HCl和
MgCl2
MgCl2
。(填化學式)
(3)反應Ⅱ的基本類型屬于
置換反應
置換反應
;反應Ⅱ要在無氧氣環(huán)境中進行,原因是
在高溫條件下,硅能被氧氣氧化生成二氧化硅
在高溫條件下,硅能被氧氣氧化生成二氧化硅
,(答出一種即可)寫出反應的化學方程式
Si+O2
高溫
SiO2
Si+O2
高溫
SiO2

(4)上述生產(chǎn)流程中,可以循環(huán)利用的物質是
HCl
HCl
(填化學式)。

【答案】SiO2+2Mg
高溫
Si+2MgO;漏斗;引流;MgCl2;置換反應;在高溫條件下,硅能被氧氣氧化生成二氧化硅;Si+O2
高溫
SiO2;HCl
【解答】
【點評】
聲明:本試題解析著作權屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書面同意,不得復制發(fā)布。
發(fā)布:2024/4/20 14:35:0組卷:27引用:2難度:0.5
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    請回答下列問題:
    (1)操作I中,用到的玻璃儀器有燒杯、玻璃棒、
     

    (2)以MgCl2為例,寫出鹵水中除去Mg2+時發(fā)生反應的化學方程式:
     
    。
    (3)操作Ⅱ中,酸化時應選擇的酸是
     
    (填化學式)。
    (4)上述反應中未涉及的基本反應類型是
     
    (填字母)。
    a.復分解反應b。置換反應c。化合反應d。分解反應
    (5)回收的CO2在紫外線照射和催化劑作用下能與水蒸氣反應,生成甲烷和氧氣,該反應的化學方程式為
     
    。紫外線照射時,在不同催化劑(①、②、③)的作用下,甲烷產(chǎn)量隨光照時間的變化如圖2所示,在第10小時甲烷產(chǎn)量最高的是
     
    (填“①”“②”或“③”)。

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    a.我市某化工廠改進生產(chǎn)技術,以黃鐵礦為原料生產(chǎn)硫酸,年產(chǎn)量達230萬噸,請根據(jù)以     下工藝流程回答相關問題
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    (1)接觸室里發(fā)生反應的化學方程式是
     

    (2)依據(jù)工藝流程圖判斷下列說法正確的是
     
    (選填序號字母)
    A.為使黃鐵礦充分燃燒,需將其粉碎
    B.過量空氣能提高SO2的轉化率
    C.使用催化劑能提高SO2的反應速率和產(chǎn)量
    D.沸騰爐排出的礦渣中含有一定量的鐵元素
    E.吸收塔中為了提高吸收效率,采用噴淋的方式
    (3)該生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的尾氣除了含有N2、O2外,還含有SO2和一定量的酸霧等.能用于測定尾氣中SO2含量的是
     

    A.NaOH溶液、酚酞試液             B.KMnO4溶液、稀H2SO4
    C.稀鹽酸、紫色石蕊試液             D.氨水、酚酞
    (4)請你從資源綜合利用的角度,指出上述企業(yè)還可能發(fā)展的生產(chǎn)項目:
     

    b.離子膜燒堿是采用離子交換膜法電解食鹽水而制成燒堿的一種方法,其中離子交換膜只允許H+、Na+通過,而Cl-、OH-和氣體均無法通過,其示意圖如下:
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    (5)陽極室的生成物
     
    ;陰極室的生成物
     
    ;
    (6)請寫出電解飽和食鹽水的化學反應方程式
     
    ;
    (7)生產(chǎn)過程中陰極室需要不斷補充水的原因
     

    發(fā)布:2024/11/8 8:0:1組卷:30引用:1難度:0.1
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