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晶體硅是一種重要的非金屬材料,有科學(xué)家認(rèn)為硅是“21世紀(jì)的能源”、“未來(lái)的石油”。
(1)工業(yè)上生產(chǎn)純硅的工藝流程如圖:
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石英砂的主要成分是SiO2在制備粗硅時(shí),焦炭的作用是
還原劑
還原劑
(填“氧化劑“或“還原劑“):在該反應(yīng)中,若消耗了3.0gSiO2,則轉(zhuǎn)移電子的總數(shù)為
1.204×1023
1.204×1023
。
(2)某實(shí)驗(yàn)室利用SiHCl3(沸點(diǎn)33.0℃)與過(guò)量H2在1000℃~l100℃反應(yīng)制得純硅。已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng),在空氣中易自燃。裝置如圖所示(熱源及夾持裝置略去)。  菁優(yōu)網(wǎng)
①裝置B中的試劑是
濃硫酸
濃硫酸
。裝置C中的燒瓶需要加熱。其目的是
使SiHCl3氣化,與氫氣反應(yīng)
使SiHCl3氣化,與氫氣反應(yīng)
。
②反應(yīng)一段時(shí)間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是
有固體物質(zhì)生成
有固體物質(zhì)生成
;裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為
SiHCl3+H2
高溫
Si+3HCl
SiHCl3+H2
高溫
Si+3HCl
。
③為檢驗(yàn)產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需要加入的試劑有
bd
bd
(填字母)。
a.碘水  b.氯水  c.Na2SO3溶液   d.KSCN溶液
【答案】還原劑;1.204×1023;濃硫酸;使SiHCl3氣化,與氫氣反應(yīng);有固體物質(zhì)生成;SiHCl3+H2
高溫
Si+3HCl;bd
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布:2024/9/30 4:0:1組卷:172引用:4難度:0.5
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